UV ultrafialový filtr NANO-X MRCUltra-Low ReflectionVelikost filtru: 58 mmFILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKYVelmi nízký koeficient odrazivosti 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnostNová technologie povlakování titanem (titanová vrstva) účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazuFiltr zabraňuje odleskům a podsvícení a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazuUltra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla28 Nano antireflexních a ochranných vrstevSuper nízký profil typu SLIM (pouze 3,3 mm tloušťky)Prsten je vyroben z galvanicky černěného hliníkuSoučástí balení je pevné balení pro uložení filtruProdukt firmy: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrůMODEL: KF01.2463 / 58 mm NANO X UV Ultra Low ReflectionSpolečnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní a profesionální UV filtry. Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.Filtr má až několik desítek nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.Ultrafialový filtr UV absorbuje ultrafialové záření a odděluje záření, které se vyskytuje v nejvyšší intenzitě v podmínkách, kde je vzduch mimořádně průhledný (zejména v horách a u moře), a které na fotografii způsobuje efekt zamlžení.Filtr UV NANO-X MRC nejen zlepšuje kvalitu fotografií, ale je také vynikající ochranou objektivu před všemi druhy pylu, tuků, prachu a mechanickým poškozením.Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X MRC:Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a dosahuje více než 99,9 %Filtr má speciální nanovrstvy, které zajišťují výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených fotografií.Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.Vynikající poměr kvality a ceny.UV filtr NANO-X MRC je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 58 mm.Filtr je vhodný pro fotoaparáty s následujícími modely objektivů m.in:Nikon:AF-S DX NIKKOR 55-300 mm f/4,5-5,6G ED VRAF-S NIKKOR 50 mm f/1,4GNIKKOR AF-S 50 mm f/1,8GCanon:EF-S 18-55 mm f/3.5-5.6 IS STMEF-S 18-55 mm f/3.5-5.6 IS IIEF 24 mm f/2.8 IS USMEF 28 mm f/1.8 USMEF 28 mm f/2.8 IS USMEF 50 mm f/1.4 USMEF 85 mm f/1.8 USMTS-E 90 mm f/2.8EF 100 mm f/2 USMEF 100 mm f/2.8 Macro USMEF-S 55-250 mm f/4-5.6 ISEF 70-300 mm f/4-5.6 IS USMEF 70-300 mm f/4.5-5.6 DO IS USMEF 75-300 mm f/4-5.6 IIIEF 75-300 mm f/4-5.6 III USMOlympus:M.ZUIKO DIGITAL ED 40-150 mm 1:4.0-5.6 RM.ZUIKO DIGITAL ED 14-150 mm 1:4.0-5.6M.ZUIKO DIGITAL ED 75 mm 1:1.8M.ZUIKO DIGITAL ED 75-300 mm 1:4.8-6.7M.ZUIKO DIGITAL ED 75-300 mm 1:4.8-6.7 IIZUIKO DIGITAL ED 70-300 mm 1:4.0-5.6Pentax:SMC Pentax-DA* 55 mm F1.4 SDMSMC Pentax-DA 55-300 mm F4-5.8 EDSMC Pentax-DA L 55-300 mm F4-5.8 EDSigma:70-300 F4-5.6 DG MAKRO70-300 F4-5.6 APO DG MACROPanasonic:LUMIX G X VARIO 12-35 mm / F2.8 ASPH. LensSamsung:18-55 mm F 3.5-5.6 OIS Lens S1855SBSPECIFIKACE FILTRU:Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického sklaNANO-X MRC – nano-antireflexní a ochranné vrstvyNemění barevnost záběru – je zcela neutrálníSupertenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM[TAG_CLOSE_A] o tloušťce pouhých 3,3 mmTitanová povrchová úpravaNemá negativní vliv na práci systému AUTOFOCUSPevná krabička na filtr je součástí baleníFiltr je pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkáchFiltr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistotSoučástí balení jsou:1 x filtr1x pevné, pevné balení zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující přepravu filtruPříklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRCPozor! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další doplňkové příslušenství zobrazené na fotografiích plní pouze náhledovou roli a
Koupit