UV ultrafialový filtr NANO-X MRCUltra-Low ReflectionVelikost filtru: 49 mmFILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKYVelmi nízký koeficient odrazivosti 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnostNová technologie povlakování titanem (titanová vrstva) účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazuFiltr zabraňuje odleskům a podsvícení a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazuUltra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla28 Nano antireflexních a ochranných vrstevSuper nízký profil typu SLIM (pouze 3,3 mm tloušťky)Prsten je vyroben z galvanicky černěného hliníkuSoučástí balení je pevné balení pro uložení filtruProdukt firmy: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrůMODEL: KF01.2460 / 49 mm NANO X UV Ultra Low ReflectionSpolečnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní a profesionální UV filtry. Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.Filtr má až několik desítek nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.Ultrafialový filtr UV absorbuje ultrafialové záření a odděluje záření, které se vyskytuje v nejvyšší intenzitě v podmínkách, kde je vzduch mimořádně průhledný (zejména v horách a u moře), a které na fotografii způsobuje efekt zamlžení.Filtr UV NANO-X MRC nejen zlepšuje kvalitu fotografií, ale je také vynikající ochranou objektivu před všemi druhy pylu, tuků, prachu a mechanickým poškozením.Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X MRC:Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a dosahuje více než 99,9 %Filtr má speciální nanovrstvy, které zajišťují výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených fotografií.Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.Vynikající poměr kvality a ceny.UV filtr NANO-X MRC je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 49 mm.Filtr je určen pro mj. pro následující přístroje:Fotoaparátů Sony:NEX-3NEX-3CNEX-3NNEX-5NEX-5CNEX-5NNEX-5RNEX-5TNEX-6NEX-7NEX-C3NEX-F3NEX-VG10A3000A3500A5000A5100A6000A6100A6300A6400A6500A6600s objektivy E 3.5-5.6/18-55 OSS nebo E 2.8/16Konica Minolta A1 / A2 / A200ObjektivůSonySEL-35F18SAL-28F28SEL-24F18ZSEL-16F28SEL-20F28SAL-30M28SEL-55210SEL-1855SAL-50F18SEL-50F18SEL-30M35PentaxSMC Pentax-DA 50-200 mm F4-5.6 ED WRSMC Pentax-D FA 50 mm F2.8 MacroSMC Pentax-D FA 100 mm F2.8 MacroSMC Pentax-D FA 100 mm F2.8 Macro WRSMC Pentax-DA 15 mm F4 ED AL LimitedSMC Pentax-DA 35 mm F2.4 ALSMC Pentax-DA 35 mm F2.8 Limited MacroSMC Pentax-DA 70 mm F2.4 LimitedSPECIFIKACE FILTRU:Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického sklaNANO-X MRC – nano-antireflexní a ochranné vrstvyNemění barevnost záběru – je zcela neutrálníSupertenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM[TAG_CLOSE_A] o tloušťce pouhých 3,3 mmTitanová povrchová úpravaNemá negativní vliv na práci systému AUTOFOCUSPevná krabička na filtr je součástí baleníFiltr je pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkáchFiltr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistotSoučástí balení jsou:1 x filtr1x pevný, pevný obal zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující přepravu filtruPříklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRCPozor! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další doplňkové příslušenství zobrazené na fotografiích plní pouze náhledovou roli a nejsou předmětem prodeje.Produkt je zcela nový a je v originálním balení.Kód produktu (SBkod): SB8550
Koupit