Uv filtr Nano-X Mrc K&f Concept pro FujiFilm X100 X100S X100V X100F X100VI

Prodává: Elektronika (Allegro)
Ultrafialový filtrUV NANO-X MRCUrčeno pro fotoaparáty FujiFilm:X100VIX100VX100FX100TX100SX100FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKYFiltr zabraňuje odleskům a podsvícení a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazuBarvy zůstávají přirozené a jasnéFiltr snižuje mlhu, která se může vyskytovat na moři…
Další informace
632 Kč
Skladem
Koupit

Popis produktu

Ultrafialový filtrUV NANO-X MRCUrčeno pro fotoaparáty FujiFilm:X100VIX100VX100FX100TX100SX100FILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKYFiltr zabraňuje odleskům a podsvícení a zajišťuje bezchybnou ostrost obrazuBarvy zůstávají přirozené a jasnéFiltr snižuje mlhu, která se může vyskytovat na moři nebo v horáchUltra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla28 Nano antireflexních a ochranných vrstevFiltr je voděodolný a odolný proti poškrábáníKroužek je vyroben z hliníku a je vybaven lichoběžníkovým vzorem, který usnadňuje montáž a demontáž filtruPřední rám filtru je magnetický a lze jej kombinovat s magnetickými filtry K&F CONCEPT o průměru 52 mmNa filtr lze připevnit také kryt od firmy K&F CONCEPT určený pro systém (dostupný také v naší nabídce)Součástí balení je pevné balení pro uložení filtruProdukt firmy: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrůMODEL: KF01.2703 / UV MRCSpolečnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní a profesionální UV filtry. Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.Filtr má až několik desítek nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.Ultrafialový filtr UV absorbuje ultrafialové záření a odděluje záření, které se vyskytuje v nejvyšší intenzitě v podmínkách, kde je vzduch mimořádně průhledný (zejména v horách a u moře), a které na fotografii způsobuje efekt zamlžení.Filtr UV NANO-X MRC nejen zlepšuje kvalitu fotografií, ale je také vynikající ochranou objektivu před všemi druhy pylu, tuků, prachu a mechanickým poškozením.Vlastnosti filtru K&F UV NANO-X MRC:Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického skla, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a dosahuje více než 99,9 %Filtr má speciální nanovrstvy zajišťující výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených fotografiíFiltr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistotSuper tenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIMVynikající poměr kvality a cenyFiltr je vhodný pro následující fotoaparáty FujiFilm m.in:X100VIX100VX100FX100TX100SX100Filtr je pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkáchFiltr má povrchové úpravy, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistotFiltr vykazuje voděodolné vlastnostiPřední rám filtru je magnetický a lze jej kombinovat s magnetickými filtry K&F CONCEPT o průměru 52 mmNa filtr lze připevnit také kryt od firmy K&F CONCEPT určený pro systém (dostupný samostatně v naší nabídce)Součástí balení jsou:1 x UV filtr1x pevné, pevné balení zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující přepravu filtruPříklad použití filtru K&F CONCEPT NANO-X MRCPozor! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další doplňkové příslušenství zobrazené na fotografiích plní pouze náhledovou roli a nejsou předmětem prodeje.Produkt je zcela nový a je v originálním balení.Kód produktu (SBkod): SB9093

Tento produkt nabízí také

Podobné produkty