Produkt je nový, v originálním balení.Polarizační filtr CPL NANO-X PRO MRCVelikost filtru: 58 mmFILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKYHD – vysoké optické rozlišení použitého sklaNANO-X PRO MRC – nano-antireflexní a ochranné vrstvySuper nízký profil typu SLIM (pouze 5 mm tloušťky)Velmi pevné a odolné hliníkové pouzdro MagnaliumSoučástí balení je pevné balení pro uložení filtruMODEL: KF01.1220 / 58 mm Nano X CPLProdukt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrů.Společnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní, profesionální polarizační filtry CPL. Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.Filtr má až tucet nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.Filtr CPL eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět například fotografií přes sklo.Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která se stává tmavší a zároveň zachovává bílou barvu mraků.Filtr CPL také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukce odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a dosahuje více než 99,9 %Filtr má speciální nanovrstvy, které zajišťují výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených fotografií.Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.Vynikající poměr kvality a ceny.Filtr CPL NANO-X PRO MRC je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 58 mm.Filtr je vhodný pro fotoaparáty s následujícími modely objektivů m.in:Nikon:AF-S DX NIKKOR 55-300 mm f/4,5-5,6G ED VRAF-S NIKKOR 50 mm f/1,4GNIKKOR AF-S 50 mm f/1,8GCanon:EF-S 18-55 mm f/3.5-5.6 IS STMEF-S 18-55 mm f/3.5-5.6 IS IIEF 24 mm f/2.8 IS USMEF 28 mm f/1.8 USMEF 28 mm f/2.8 IS USMEF 50 mm f/1.4 USMEF 85 mm f/1.8 USMTS-E 90 mm f/2.8EF 100 mm f/2 USMEF 100 mm f/2.8 Macro USMEF-S 55-250 mm f/4-5.6 ISEF 70-300 mm f/4-5.6 IS USMEF 70-300 mm f/4.5-5.6 DO IS USMEF 75-300 mm f/4-5.6 IIIEF 75-300 mm f/4-5.6 III USMOlympus:M.ZUIKO DIGITAL ED 40-150 mm 1:4.0-5.6 RM.ZUIKO DIGITAL ED 14-150 mm 1:4.0-5.6M.ZUIKO DIGITAL ED 75 mm 1:1.8M.ZUIKO DIGITAL ED 75-300 mm 1:4.8-6.7M.ZUIKO DIGITAL ED 75-300 mm 1:4.8-6.7 IIZUIKO DIGITAL ED 70-300 mm 1:4.0-5.6Pentax:SMC Pentax-DA* 55 mm F1.4 SDMSMC Pentax-DA 55-300 mm F4-5.8 EDSMC Pentax-DA L 55-300 mm F4-5.8 EDSigma:70-300 F4-5.6 DG MAKRO70-300 F4-5.6 APO DG MACROPanasonic:LUMIX G X VARIO 12-35 mm / F2.8 ASPH. LensSamsung:18-55 mm F 3.5-5.6 OIS Lens S1855SBSPECIFIKACE FILTRU:Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického sklaDvoustranně potažené 18vrstvou vrstvou (NANO-X PRO MRC) skloOchranná hydrofobní, protiolejová, protiprachová, protišpinivá, odolná proti poškrábání vrstva.Nemění barevnost záběru – je zcela neutrálníSuper tenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5 mmVelmi pevné a odolné hliníkové pouzdro MagnaliumNemá negativní vliv na práci systému AUTOFOCUSPevná krabička na filtr je součástí baleníSuper tenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5 mmFiltr je pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkáchFiltr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistotPříklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X PRO MRCPozor!
Koupit