Polarizační filtr CPL NANO-XUltra-Low ReflectionVelikost filtru: 72 mmFILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKYVelmi nízký koeficient odrazivosti 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnostNová technologie povlakování titanem účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazuUltra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla28 Nano antireflexních a ochranných vrstevSuper nízký profil typu SLIM (pouze 5.3 mm tloušťky)Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníkovo-hořčíkové slitinySoučástí balení je pevné balení pro uložení filtruProdukt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrů.MODEL: KF01.2479 / 72 mm Nano X CPL Ultra Low ReflectionSpolečnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní, profesionální polarizační filtry CPL. Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.Filtr má až několik desítek nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.Filtr CPL eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět například fotografií přes sklo.Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která se stává tmavší a zároveň zachovává bílou barvu mraků.Filtr CPL také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukce odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a dosahuje více než 99,9 %Filtr má speciální nanovrstvy, které zajišťují výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených fotografií.Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.Vynikající poměr kvality a ceny.Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 72 mm.Filtr je vhodný pro fotoaparáty s následujícími modely objektivů m.in:Canon:EF-S 15-85 mm f/3.5-5.6 IS USMEF-S 18-200 mm f/3.5-5.6 ISEF 28-135 mm f/3.5-5.6 IS USMEF 20 mm f/2.8 USMEF 35 mm f/1.4L USMTS-E 45 mm f/2.8EF 50 mm f/1.2L USMEF 85 mm f/1.2L II USMEF 135 mm f/2L USMEF 180 mm f/3.5L Macro USMEF 200 mm f/2.8L II USMNikon:AF-S DX NIKKOR 18-200 mm f/3,5-5,6 G ED VR II18-200 mm f/3,5-5,6G IF-ED AF-S VR DX NIKKOR24-85 mm f/2,8-4D IF AF NIKKORAF-S NIKKOR 24-85 mm f/3,5-4,5G ED VR24-85 mm f/2,8-4D IF AF NIKKOR180 mm f/2,8D ED-IF AF NIKKOR1 NIKKOR VR 10–100 mm f/4,5–5,6 PD-ZOOMSony:SAL-1118SAL-1650SAL-50F14ZSAL-20F28SAL-24F20ZSAL-135F28SAL-85F14ZOlympus:ZUIKO DIGITAL ED 9-18 mm 1:4.0-5.6ZUIKO DIGITAL 11-22 mm 1:2.8-3.5ZUIKO DIGITAL ED 12-60 mm 1:2.8-4.0 SWDSigma:17-70 F2.8-4 DC MACRO OS HSM C18-200 F3.5-6.3 DC OS18-250 F3.5-6.3 DC OS HSM150 F2.8 APO EX DG OS HSM MACROTamron:AF 17-50 mm F/2.8 XR Di II VC LD AsphericalAF 18-270 mm F/3.5-6.3 Di II VC LD AsphericalAF 180 mm F/3.5 SP Di LD Asférický [IF] Makro 1:1Panasonic:Panasonic 14-50 mm f/2.8-3.5 Vario-Elmarit Aspherical MEGA O.I.S.Panasonic 14-150 mm f/3.5-5.6 Vario-Elmar MEGA O.I.S.SPECIFIKACE FILTRU:Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického sklaDvoustranně potažené 28vrstvou vrstvou (NANO-X) skloOchranná hydrofobní, protiolejová, protiprachová, protišpinivá, odolná proti poškrábání vrstva.Nemění barevnost záběru – je zcela neutrálníSupertenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mmNemá negativní vliv na práci systému AUTOFOCUSPevná krabička na filtr je součástí baleníFiltr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných
Koupit