Polarizační filtr CPL NANO-XUltra-Low ReflectionVelikost filtru: 52 mmFILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKYVelmi nízký koeficient odrazivosti 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnostNová technologie povlakování titanem účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazuUltra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla28 Nano antireflexních a ochranných vrstevSuper nízký profil typu SLIM (pouze 5.3 mm tloušťky)Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníkovo-hořčíkové slitinySoučástí balení je pevné balení pro uložení filtruProdukt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrů.MODEL: KF01.2474 / 52 mm Nano X CPL Ultra Low ReflectionSpolečnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní, profesionální polarizační filtry CPL. Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.Filtr má až několik desítek nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.Filtr CPL eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět například fotografií přes sklo.Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která se stává tmavší a zároveň zachovává bílou barvu mraků.Filtr CPL také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukce odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a dosahuje více než 99,9 %Filtr má speciální nanovrstvy, které zajišťují výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených fotografií.Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.Vynikající poměr kvality a ceny.Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 52 mm.Filtr je vhodný pro fotoaparáty s následujícími modely objektivů m.in:Canon:EF-M 18-55 mm f/3.5-5.6 IS STMEF 40 mm f/2.8 STMEF 50 mm f/1.8 IIEF 50 mm f/2.5 Compact MacroEF-S 60 mm f2.8 Macro USMEF-S 60 mm f2.8 Macro USMEF 135 mm f/2.8 (With Softfocus)Nikon:18-55 mm f/3,5-5,6G AF-S VR DX NIKKOR18-55 mm f/3,5-5,6GII AF-S DX NIKKOR55-200 mm f/4-5,6 AF-S VR DX NIKKOR55-200 mm f/4-5,6G ED AF-S DX NIKKOR24 mm f/2.8D AF NIKKOR35 mm f/2D AF NIKKOR50 mm f/1,8D AF NIKKOR50 mm f/1,4D AF NIKKORAF-S DX 35 mm f/1,8G NIKKORAF-S DX Micro 85 mm f/3,5G ED VR NIKKORAF-S DX Micro 40 mm f/2,8G NIKKORAS-S 24 mm f/2,8D1 NIKKOR VR 6,7–13 mm f/3,5–5,6Pentax:SMC Pentax-DA 18-55 mm F3.5-5.6 ALSMC Pentax-DA L 18-55 mm F3.5-5.6 ALSMC Pentax-DA 18-55 mm F3.5-5.6 AL IISMC Pentax-DA 18-55 mm F3.5-5.6 AL WRSMC Pentax-DA 50 mm F1.8SMC Pentax-DA 50-200 mm F4-5.6 EDOlympus:M.ZUIKO DIGITAL ED 9-18 mm 1:4.0-5.6M.ZUIKO DIGITAL ED 12-50 mm 1:3.5-6.3 EZZUIKO DIGITAL 35mm Makro 1:3.5ZUIKO DIGITAL ED 50mm Makro 1:2.0Panasonic:LUMIX G Vario 14-45 mm / F3.5-5.6 ASPH. / MEGA O.I.SLUMIX G X Vario 45-200 mm f/4-5,6 MEGA O.I.S.LUMIX G Vario 45-150 mm/F4.0-5.6 ASPH. /MEGA O.I.S.Fuji:XF18mm F2 RXF35mm F1.4 RTamron:AF 55-200 mm F/4-5.6 Di II LD MacroSamsung:NNX 50-200 mm 4.0-5.6 ED OIS T50200SBSPECIFIKACE FILTRU:Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického sklaDvoustranně potažené 28vrstvou vrstvou (NANO-X) skloOchranná hydrofobní, protiolejová, protiprachová, protišpinivá, odolná proti poškrábání vrstva.Nemění barevnost záběru – je zcela neutrálníSupertenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mmNemá negativní vliv na práci systému AUTOFOCUSPevná krabička na filtr je součástí
Koupit