Polarizační filtr CPL NANO-XUltra-nízký odrazVelikost filtru: 49 mmFILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYVĚNOVÁNO PROFESIONÁLŮMFILTR S INOVATIVNÍMI NANO POVLAKYVelmi nízký koeficient odrazu 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnostNová technologie titanového povlaku efektivně eliminuje případné zežloutnutí obrazuUltra HD - vysoké optické rozlišení použitého skla28 Nano-antireflexních a ochranných vrstevSuper nízký profil typu SLIM (pouze 5.3 mm silný)Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníkovo-hořčíkové slitinyVčetně pevného obalu pro uložení filtruProdukt společnosti: K&F CONCEPT - nesporný lídr v kvalitě ve výrobě fotografických filtrů.MODEL : KF01.2473 / 49 mm Nano X CPL Ultra Low ReflectionSpolečnost K&F CONCEPT představuje kvalitní a profesionální polarizační CPL filtry. Jedná se o špičkové filtry, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou zpracování a stupněm pokročilosti.Filtr má až několik desítek nano-povlaků nanesených vrstveně na optické šlo.Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.CPL filtr eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět např. fotografií přes sklo.Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména u fotografování oblohy, která se stává tmavší, při zachování bílé barvy mraků.CPL filtr také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukci odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky tomu je přenos světla mnohem vyšší a je více než 99,9%Filtr má speciální nano-povlaky pro výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených snímků.Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky rozhodně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistot.Vynikající hodnota za peníze.Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 49 mm.Fotoaparát Sony:NEX-3NEX-3CNEX-3NNEX-5NEX-5CNEX-5NNEX-5RNEX-5TNEX-6NEX-7NEX-C3NEX-F3NEX-VG10A3000A3500A5000A5100A6000A6100A6300A6400A6500A6600s objektivy E 3.5-5.6/18-55 OSS nebo E 2.8/16Konica Minolta A1 / A2 / A200ObjektivySonySEL-35F18SAL-28F28SEL-24F18ZSEL-16F28SEL-20F28SAL-30M28SEL-55210SEL-1855SAL-50F18SEL-50F18SEL-30M35PentaxObjektiv SMC Pentax-DA 50-200mm F4-5.6 ED WRSMC Pentax-D FA 50mm F2,8 MakroSMC Pentax-D FA 100mm F2.8 MakroObjektiv SMC Pentax-D FA 100mm F2.8 Macro WRSMC Pentax-DA 15mm F4 ED AL LimitedObjektiv SMC Pentax-DA 35mm F2.4 ALSMC Pentax-DA 35mm F2.8 Limited MacroSMC Pentax-DA 70mm F2.4 LimitedSPECIFIKACE FILTRU:Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického sklaOboustranně potažené 28vrstvým povlakem (NANO-X) skloOchranný hydrofobní, protiolejový, protiprachový, proti nečistotám, odolný proti poškrábání.Nemění barevnost záběru - je zcela neutrálníSuper tenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mmŽádný negativní vliv na provoz systému AUTOFOCUSPevný krabička na filtr součástí baleníFiltr má povlaky, které rozhodně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistotFiltr je potažen povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Státní vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkáchSoučástí balení:1x filtr1x pevný, pevný obal proti poškrábání, poškození a pro snadnou přepravu filtruPříklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-XPozor! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další doplňkové příslušenství zobrazené na fotografiích plní pouze náhledovou roli a nejsou předmětem prodeje.Produkt z výroby nový, v originálním balení.Kód
Koupit