Polarizační filtr CPL NANO-XUltra-Low ReflectionVelikost filtru: 43 mmFILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKYVelmi nízký koeficient odrazivosti 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnostNová technologie povlakování titanem účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazuUltra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla28 Nano antireflexních a ochranných vrstevSuper nízký profil typu SLIM (pouze 5.3 mm tloušťky)Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníkovo-hořčíkové slitinySoučástí balení je pevné balení pro uložení filtruProdukt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrů.MODEL: KF01.2471 / 43 mm Nano X CPL Ultra Low ReflectionSpolečnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní, profesionální polarizační filtry CPL. Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.Filtr má až několik desítek nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.Filtr CPL eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět například fotografií přes sklo.Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která se stává tmavší a zároveň zachovává bílou barvu mraků.Filtr CPL také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukce odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a dosahuje více než 99,9 %Filtr má speciální nanovrstvy, které zajišťují výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených fotografií.Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.Vynikající poměr kvality a ceny.Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 43 mm.Filtr je vhodný pro následující fotoaparáty m.in:CanonEF-M 22 MM 2.0 STMRF 50 mm F1.8 STMEF-M 32 mm f/1.4 STMEF-M 28 mm f/3.5 Macro IS STMFujifilmXF 35 mm f/2.0 R WRSPECIFIKACE FILTRU:Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického sklaDvoustranně potažené 28vrstvou vrstvou (NANO-X) skloOchranná hydrofobní, protiolejová, protiprachová, protišpinivá, odolná proti poškrábání vrstva.Nemění barevnost záběru – je zcela neutrálníSupertenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mmNemá negativní vliv na práci systému AUTOFOCUSPevná krabička na filtr je součástí baleníFiltr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistotFiltr je pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkáchSoučástí balení jsou:1 x filtr1x pevné, pevné balení zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující přepravu filtruPříklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-XPozor! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další doplňkové příslušenství zobrazené na fotografiích plní pouze náhledovou roli a nejsou předmětem prodeje.Produkt je zcela nový a je v originálním balení.Kód produktu (SBkod): SB8641
Koupit