Polarizační filtr CPL NANO-XUltra-Low ReflectionVelikost filtru: 40.5 mmFILTR NEJVYŠŠÍ KVALITYURČENO PRO PROFESIONÁLYFILTR S INOVATIVNÍMI NANOPOVLAKYVelmi nízký koeficient odrazivosti 0,1 %, eliminuje 99,9 % polarizovaného světla a má velmi vysokou propustnostNová technologie povlakování titanem účinně eliminuje případné zežloutnutí obrazuUltra HD – vysoké optické rozlišení použitého skla28 Nano antireflexních a ochranných vrstevSuper nízký profil typu SLIM (pouze 5.3 mm tloušťky)Velmi pevné a odolné pouzdro z hliníkovo-hořčíkové slitinySoučástí balení je pevné balení pro uložení filtruProdukt společnosti: K&F CONCEPT – nesporný lídr v oblasti kvality výroby fotografických filtrů.MODEL: KF01.2470 / 40.5 mm Nano X CPL Ultra Low ReflectionSpolečnost K&F CONCEPT představuje vysoce kvalitní, profesionální polarizační filtry CPL. Jedná se o filtry nejvyšší kvality, málokteré filtry se jim vyrovnají kvalitou provedení a stupněm pokročilosti.Filtr má až několik desítek nanopovlaků nanesených vrstveně na optické sklo.Polarizační filtr je ideálním doplňkem zejména pro krajinářskou fotografii.Polarizační filtr zvyšuje kontrast fotografií a sytost barev.Filtr CPL eliminuje odlesky a odrazy nejen ze skleněných, ale i metalických povrchů. Díky tomu je možné provádět například fotografií přes sklo.Polarizační filtr CPL propouští pouze světlo s lineární polarizací ve zvoleném směru. V důsledku toho filtr částečně pohlcuje rozptýlené světlo v atmosféře, což je patrné zejména při fotografování oblohy, která se stává tmavší a zároveň zachovává bílou barvu mraků.Filtr CPL také umožňuje výrazné zlepšení sytosti barev neprůhledných povrchů (např. zeleně rostlin) a redukce odrazů od průhledných povrchů (např. vodní plochy nebo skla).Vlastnosti filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:Vyrobeno z optického skla nejvyšší kvality, díky čemuž je přenos světla mnohem vyšší a dosahuje více než 99,9 %Filtr má speciální nanovrstvy, které zajišťují výrazné snížení odlesků a zlepšení pořízených fotografií.Filtr je také pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Povlaky výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných nečistot.Vynikající poměr kvality a ceny.Filtr je určen pro všechny fotoaparáty a kamery s průměrem objektivu 40.5 mm.Filtr je vhodný pro následující fotoaparáty m.in:Nikon 1: V1 / J1 / J2 / V2 / S1 / S2 / AW1 / V3 / J3 / J4 / V4 s objektivem NIKKOR 10? 30 mm 1:3,5? 5,6 VR nebo NIKKOR 11-27,5 mm 1:3.5-5.6Pentax: Q / Q1 / Q10 / Q7 / Q-S1 s objektivem SMC 1:1.9 8.5 mm AL [IF] nebo SMC 1:2.8-4.5 5-15 mm ED AF [IL]Olympus PEN: E-P1 / E-P2 / E-P3 / E-PL1 / E-PL2 / E-PL3 s objektivem 14-42 mm 1:3.5-5.6 L ED (fi 40,5 mm)Samsung: NX300 / NX30 / NX3000 / NX10 / NX20 / NX1000 / NX11 / NX1100 / NX100 / NX2000 s objektivem1: 3.5-5.6 20-50 mm II EDSony A5100 / A6000 / A5000 / NEX-5R / NEX-5T / NEX-3N / NEX-6 s objektivem E 3.5-5.6/PZ 16-50 OSSSPECIFIKACE FILTRU:Vyrobeno z nejkvalitnějšího japonského optického sklaDvoustranně potažené 28vrstvou vrstvou (NANO-X) skloOchranná hydrofobní, protiolejová, protiprachová, protišpinivá, odolná proti poškrábání vrstva.Nemění barevnost záběru – je zcela neutrálníSupertenký a lehký hliníkový rámeček typu SLIM o tloušťce pouhých 5.3 mmNemá negativní vliv na práci systému AUTOFOCUSPevná krabička na filtr je součástí baleníFiltr má povlaky, které výrazně usnadňují čištění filtrů a zabraňují nadměrnému přitahování prachu, pylu a jiných druhů nečistotFiltr je pokryt povlaky, které se vyznačují vysokou odolností proti poškrábání a mechanickému poškození. Vynikající ochrana filtru i v těch nejnáročnějších podmínkáchSoučástí balení jsou:1 x filtr1x pevné, pevné balení zabraňující poškrábání, poškození a usnadňující přepravu filtruPříklad použití filtru K&F CONCEPT CPL NANO-XPozor! Fotoaparáty, objektivy, stativy a další doplňkové příslušenství zobrazené na fotografiích plní pouze náhledovou roli a nejsou předmětem prodeje.Produkt je zcela nový a je v originálním balení.Kód produktu (SBkod): SB8640
Koupit