Filtr K&f Concept Nano-X Mrc Cpl & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 62 mm

Prodává: Elektronika (Allegro)
Filtr K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 je hybridní řešení 3v1, které kombinuje funkci šedého filtru s proměnnou hustotou, polarizačního a difúzního. Jeden modifikátor umožňuje ovládat expozici, eliminovat odlesky…
Další informace
2 274 Kč
Skladem
Koupit

Popis produktu

Filtr K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 je hybridní řešení 3v1, které kombinuje funkci šedého filtru s proměnnou hustotou, polarizačního a difúzního. Jeden modifikátor umožňuje ovládat expozici, eliminovat odlesky a dosáhnout jemného filmového efektu záře. Japonské sklo AGC zaručuje nejvyšší kvalitu obrazu a 28vrstvá povrchová úprava Nano-X MRC chrání před vodou, prachem a poškrábáním. Tenký hliníkový rámeček zabraňuje vinětaci a přesná regulace zajišťuje plynulý chod bez efektu „X“. V sadě najdete elegantní pouzdro s magnetickým uzávěrem a vakuově balenou utěrku z mikrovlákna. Je to ideální volba pro fotografy a filmaře, kteří hledají spolehlivý nástroj pro kreativní práci za všech podmínek.

Hlavní vlastnosti produktu

vysoce kvalitní hybridní fotografický filtr 3v1kompatibilní s objektivy s průměrem závitu 62 mmkombinuje polarizační filtr ND2–32 a Black Mist 1/4 v jednom provedeníjaponské sklo s výjimečnou průhledností a trvanlivostí28-vrstvá vrstva Nano-X MRC s hydrofobními vlastnostmištíhlý hliníkový rámeček zabraňující vinětaciumožňuje snížení expozice v rozsahu 1 až 5 clonových políeliminuje odlesky a odlesky z vody, skla a kovových povrchůvytváří měkké filmové rozmazání a jemný efekt odleskůzabraňuje přeexponování a zlepšuje kontrast obrazuzvyšuje sytost barev a hloubku fotografických scénžádný černý efekt „X“ při ohniskových vzdálenostech nad 35 mmodolnost vůči vodě, prachu, mastnotě a poškrábánívysoká propustnost světla a věrné podání barevpřesná regulace otáčení se samosvorným kroužkemdrážkovaný kroužek pro snadnou montáž a nastavenípřesné CNC obrábění zaručující perfektní sladěnílehká a odolná konstrukce z leteckého hliníkuelegantní pouzdro z koženkového materiálu s magnetickým zavíránímměkké vnitřní pouzdro pouzdroboční pásek V POUZDRU umožňující snadné vyjmutí filtruvakuově balená utěrka z mikrovlákna pro čištění sklaIdeální sada pro fotografování venku a práci v terénu

Hybridní konstrukce: 3 filtry v 1

Filtr K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 je jedním z nejinovativnějších řešení ve své třídě. Kombinuje tři technologie: nastavitelný ND filtr, který kontroluje expozici, polarizační filtr CPL eliminující odrazy a difúzní filtr Black Mist 1/4, který dodává záběrům měkkost a jemný odlesk. Díky tomu získáte obrovský rozsah možností – od práce na ostrém slunci až po filmové portréty s magickou aurou. Tento jeden filtr vám otevře zcela nové kreativní prostory!Přesná kontrola expozice

Díky nastavitelnému rozsahu hodnot ND umožňuje filtr K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 přesné ovládání množství světla vstupujícího do objektivu. Můžete prodloužit dobu expozice nebo otevřít clonu širším způsobem bez rizika přeexponování. Rozsah clony od 1 do 5 bodů (ND2-32) umožňuje naprostou svobodu při fotografování krajiny, portrétů a filmů. Otáčením kroužku s jemným odporem nastavíte přesně takovou úroveň redukce, jakou potřebujete, bez efektu tmavého kříže „X“, typického pro některé filtry konkurenčních značek.

Efekt Black Mist – měkký obraz a filmová atmosféra

Integrovaný difúzní filtr Black Mist 1/4 jemně rozptyluje světlo, zmírňuje kontrasty a dodává scénám jemnou, filmovou atmosféru. Toto řešení se skvěle hodí pro portréty – vyhlazuje pokožku, skrývá drobné nedokonalosti a zdůrazňuje přirozenou krásu obličeje. Efekt připomíná obraz z klasické filmové pásky – měkký, náladový a plný emocí. Je to skvělý způsob, jak dosáhnout jedinečného charakteru fotografií bez nutnosti použití dalších efektů v postprodukci.

Účinná eliminace odlesků

Model K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 nabízí také vestavěný polarizační filtr. Díky němu se účinně zbavíte nežádoucích odlesků a odrazů světla od povrchů, jako je sklo, voda nebo kov. Díky tomu vaše fotografie získají na hloubce a barvy budou sytější a přirozenější. Filtr CPL je neocenitelnou podporou při fotografování krajiny – zdůrazňuje světle modrá oblohu, extrahuje zeleň listí a zajišťuje jasnost obrazu i v těch nejnáročnějších světelných podmínkách.

Pokročilá povrchová úprava Nano-X MRC

Filtr K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 byl pokryt 28vrstvou vrstvou MRC (anglicky) Multiresistant Coating), který zvyšuje přenos světla, minimalizuje odlesky a chrání povrch skla před vodou, prachem, mastnotou a poškrábáním. Díky hydrofobním vlastnostem kapky vody a prach snadno odtékají z povrchu filtru, což umožňuje jeho udržení v dokonalé čistotě i v náročných venkovních podmínkách. To je zárukou dlouhověkosti a spolehlivé kvality obrazu.Japonské sklo AGC

Srdcem filtru K&F Concept Nano-X MRC CPL & Fader ND2-32 & Black Mist 1/4 je vysoce kvalitní sklo

Podobné produkty

Filtr Pro Nano Air Uv 77mm Informace
Elektronika

Filtr Pro Nano Air Uv 77mm

NiSi filtr Pro Nano AIR UV 77 mmUV filtr NiSi Air je vrcholem optického inženýrství a je navržen pro fotografy, kteří vyžadují nekompromisní průhlednost, přesnost a ochranu. Díky nejmodernější technologii ULRC (Ultra Low Reflective Coating)…

2 115 Kč
Koupit