Drátová sluchátka FiiO FT1 ProFiiO FT1 Pro | Sluchátka přes hlavu | Kolem uší | Otevřená | Planární | 20 OhmFiiO FT1 Pro vstupují na trh s jasným cílem: zpřístupnit technologii planárních měničů širšímu publiku. Historicky byly planární konstrukce synonymem vysoké ceny, specifického ladění a nutnosti vlastnit nákladné a výkonné doprovodné zařízení. Model FT1 Pro tyto bariéry účinně překonává, nabízí otevřenou konstrukci za velmi přijatelnou cenu, a představuje tak výjimečnou hodnotu pro ty, kteří chtějí planární zvuk vyzkoušet poprvé nebo provést významný upgrade z dynamických sluchátek.Model zapadá do filozofie FiiO "Lehká sluchátka", přičemž dodatek "Pro" (Progressive) znamená pokrok a vylepšení oproti standardní verzi.Hlavní vlastnosti:Planární měnič 95x86 mm vyvinutý společností FiiOMembrána o tloušťce 1 μmPatentovaná technologie dvojité safírovo-hliníkové vrstvyKonstrukce jednotného magnetického poleTechnologický proces třídy 28 nmKonstrukce s vysokou citlivostí 20 OhmOtevřená konstrukceLehká konstrukce12stupňové nastavení hlavového mostuPlanární měnič 95 x 86 mm vyvinutý společností FiiO
FT1 Pro jsou vybaveny vlastní technologií planárních měničů druhé generace FIIO. Planární měnič byl navržen od základů společností FiiO, od membrány, přes patentovanou dvojitou vrstvu, šířku vodivé dráhy, až po precizní vyladění magnetického obvodu a dokonce i standardizované upevnění držáků – to vše proto, aby byl zajištěn skutečně špičkový měnič.
Špičkový planární měnič s tenkou membránou o tloušťce 1 μm
Inženýři FiiO neustále usilovali o získání tenčích a lehčích membrán pro planární měniče. Po dvou letech nezávislého výzkumu a vývoje vytvořili pro FT1 Pro špičkovou ultratenkou membránu o tloušťce 1 μm, využívající jako podklad vysoce výkonný PET. Rozdíl mezi tloušťkou membrány i 2 μm a 1 μm způsobuje znatelné rozdíly ve výkonu, když membrána vibruje vysokou rychlostí, což nakonec ovlivňuje kvalitu zvuku.
Ultratenká membrána 1 μm FT1 Pro je výjimečně lehká, což jí umožňuje reagovat bleskovou rychlostí. Věrně reprodukuje i jemné zvuky v rozsahu ultravysokých frekvencí a také poskytuje výjimečný dynamický rozsah.
Patentovaná technologie dvojité safírovo-hliníkové vrstvy
FiiO FT1 Pro využívá novou, samostatně vyvinutou technologii pro svůj planární měnič – patentovaný systém dvojité vrstvy. Planární měnič využívá vysoce výkonný PET jako podklad membrány a selektivně nanáší safír a hliník, aby vytvořil měnič s dvojitou vrstvou. Tato konstrukce zlepšuje frekvenční odezvu měniče v různých frekvenčních rozsazích, zlepšuje rozlišení zvuku a umožňuje posluchačům plně ocenit nuancovanou a výjimečnou kvalitu zvuku planárních měničů.
První vrstva povlaku je vyrobena z hliníku. Lehká a vodivá hliníková vrstva zlepšuje vodivost cest, pomáhá snižovat impedanci a požadavky na spotřebu energie měniče a také zlepšuje jeho dynamiku.
Druhá vrstva povlaku je vyrobena ze safíru. Díky své vysoké tvrdosti přispívá safírová vrstva k tuhosti membrány a zlepšuje rozlišení vysokých tónů a celkovou průzračnost a také pomáhá měniči prezentovat jeho unikátní zvuk.
Projekt rovnoměrného magnetického pole
FT1 Pro jsou vybaveny novou akustickou technologií FiiO - projekt jednotného magnetického pole, který optimalizuje nerovnoměrnou intenzitu magnetického pole způsobenou sousedními magnety a dále rozšiřuje jeho rozsah. Tato technologie činí magnetické pole FT1 Pro rozsáhlejší, preciznější a vyváženější, což umožňuje rovnoměrnější zatížení membrány planárního měniče v magnetickém poli. To znamená, že membrána planárního měniče FT1 Pro se pohybuje rovnoměrněji, snižuje rozbití a zkreslení – což vede k vytříbenějšímu zvuku, který přesně zachycuje i ty nejjemnější nuance v hudbě, což je charakteristické pro špičkové planární měniče.
Technologický proces třídy 28 nm
Aby bylo dosaženo vysoké kvality zvuku pomocí složitého, samostatně vyvinutého planárního měniče druhé generace, musí být vyroben s precizností na úrovni nanometrů. Tradiční procesy potahování membrány nejsou dostatečně precizní.
Aby bylo dosaženo membrány měniče o odpovídající vysoké kvalitě, je měnič FIIO FP3/FT1 Pro vyroben za použití procesu 28 nm. Tato technika, inspirovaná technologií potahování používanou v polovodičovém průmyslu, zcela izoluje materiál vodivých cest od okolního vzduchu. Materiál cest se nachází ve stavu vakua při tlaku 6,6 × 10−3 pascalů a teplota je zvýšena na 120 °C. Materiál cest je přeměněn na ionizované částice, které se následně hromadí na ultratenké vrstvě o tloušťce 1 μm díky principům přitažlivosti nábojů. Tento proces vytváří požadovanou tloušťku povlaku pro optimální akustiku a výrazně zvyšuje trvanlivost a životnost
Koupit